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Rivestimento in Pvd a film sottile ad alta purezza con obiettivo sputtering CuMn Realizzato su misura

Manganese Rame

Breve descrizione:

Categoria

Bersaglio sputtering in lega

Formula chimica

CuMn

Composizione

Manganese Rame

Purezza

99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma

Piastre, bersagli a colonna, catodi ad arco, su misura

Processo produttivo

Fusione sotto vuoto

Misura disponibile

L≤200mm, L≤200mm


Dettagli del prodotto

Tag dei prodotti

Il bersaglio di sputtering in lega di rame e manganese è fabbricato mediante fusione sotto vuoto.Ha microstruttura omogenea, elevata durezza e proprietà antideformazione e lunga durata.Quindi potrebbe aiutare a ridurre i costi di produzione perché non è necessario sostituire gli obiettivi di sputtering a intervalli frequenti.

La lega di rame e manganese potrebbe essere utilizzata anche per produrre ottone al manganese e leghe Cu-Ni-Mn.Il manganese mostra una sostanziale solubilità solida nel rame ed è un efficace agente rinforzante della soluzione solida.Potrebbe migliorare notevolmente la durezza, la resistenza e il comportamento di resistenza alla corrosione in ambiente marino, cloruro e pressione di vapore.

Il rame è un elemento chimico che ha origine dal nome inglese antico coper, che a sua volta deriva dal latino "Cyprium aes", che significa metallo di Cipro.Fu utilizzato presto nel 9000 a.C. e scoperto da persone provenienti dal Medio Oriente.“Cu” è il simbolo chimico canonico del rame.Il suo numero atomico nella tavola periodica degli elementi è 29 con posizione nel Periodo 4 e Gruppo 11, appartenente al blocco D.La massa atomica relativa del rame è 63,546(3) Dalton, il numero tra parentesi indica l'incertezza.

Il manganese è un elemento chimico che ha origine dal latino "magnes", che significa magnete, o dall'ossido di magnesio nero, "magnesia nigra".Fu menzionato per la prima volta nel 1770 e osservato da O. Bergman.L'isolamento fu poi realizzato e annunciato da G. Gahn.“Mn” è il simbolo chimico canonico del manganese.Il suo numero atomico nella tavola periodica degli elementi è 25 con posizione nel Periodo 4 e Gruppo 7, appartenente al blocco D.La massa atomica relativa del manganese è 54,938045(5) Dalton, il numero tra parentesi indica l'incertezza.

Una vasta gamma di materiali speciali specializzati nella produzione di target per sputtering, possiamo produrre materiali per sputtering in rame e manganese su specifica del cliente.Per ulteriori informazioni, si prega di contattarci.


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