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Campo di applicazione del materiale target per lo sputtering di molibdeno

Il molibdeno è un elemento metallico, utilizzato principalmente nell'industria del ferro e dell'acciaio, la maggior parte del quale viene utilizzato direttamente nella produzione dell'acciaio o della ghisa dopo la pressatura dell'ossido di molibdeno industriale, e una piccola parte viene fusa in ferro molibdeno e quindi utilizzata nell'acciaio fabbricazione.Può migliorare la resistenza, la durezza, la saldabilità e la tenacità della lega, ma anche migliorarne la resistenza alle alte temperature e alla corrosione.Quindi in quali campi vengono utilizzati gli obiettivi di sputtering di molibdeno?Quella che segue è la condivisione dell'editore di RSM.

https://www.rsmtarget.com/

  Applicazione del materiale target per lo sputtering al molibdeno

Nell'industria elettronica, il bersaglio di sputtering al molibdeno viene utilizzato principalmente nei display piatti, negli elettrodi delle celle solari a film sottile, nei materiali di cablaggio e nei materiali barriera dei semiconduttori.Questi si basano sull'elevato punto di fusione del molibdeno, sull'elevata conduttività elettrica, sulla bassa impedenza specifica, sulla migliore resistenza alla corrosione e sulle buone prestazioni ambientali.

Il molibdeno è uno dei materiali preferiti per gli obiettivi di sputtering dei display piatti grazie ai vantaggi di solo metà dell'impedenza e dello stress della pellicola rispetto al cromo e all'assenza di inquinamento ambientale.Inoltre, l'uso del molibdeno nei componenti LCD può migliorare notevolmente le prestazioni dell'LCD in termini di luminosità, contrasto, colore e durata.

Nel settore dei display a schermo piatto, una delle principali applicazioni di mercato del target dello sputtering al molibdeno è il TFT-LCD.Le ricerche di mercato indicano che i prossimi anni rappresenteranno il picco dello sviluppo degli LCD, con un tasso di crescita annuo di circa il 30%.Con lo sviluppo degli LCD, anche il consumo degli obiettivi di sputtering degli LCD aumenta rapidamente, con un tasso di crescita annuo di circa il 20%.Nel 2006, la domanda globale di materiale target per lo sputtering di molibdeno era di circa 700 tonnellate e nel 2007 era di circa 900 tonnellate.

Oltre al settore dei display a schermo piatto, con lo sviluppo del nuovo settore energetico, è in aumento l'applicazione del target sputtering di molibdeno nelle celle solari fotovoltaiche a film sottile.Lo strato di elettrodi della batteria a film sottile CIGS (Cu indio gallio selenio) si forma sul bersaglio di sputtering di molibdeno mediante sputtering.


Orario di pubblicazione: 16 luglio 2022