Applicazione del target di sputtering di chip semiconduttori

Rich Special Material Co., Ltd. è in grado di produrre target per sputtering in alluminio di elevata purezza, target per sputtering in rame, target per sputtering al tantalio, target per sputtering in titanio, ecc. per l'industria dei semiconduttori.

I chip semiconduttori hanno requisiti tecnici elevati e prezzi elevati per gli obiettivi di sputtering.I loro requisiti in termini di purezza e tecnologia degli obiettivi di sputtering sono superiori a quelli dei display a schermo piatto, delle celle solari e di altre applicazioni.I chip semiconduttori stabiliscono standard estremamente severi sulla purezza e sulla microstruttura interna dei target di sputtering.Se il contenuto di impurità del bersaglio di sputtering è troppo elevato, la pellicola formata non può soddisfare le proprietà elettriche richieste.Nel processo di sputtering, è facile che si formino particelle sul wafer, con conseguenti cortocircuiti o danni al circuito, che incidono gravemente sulle prestazioni della pellicola.In generale, per la produzione di chip è richiesto il target di sputtering con la massima purezza, che solitamente è pari al 99,9995% (5N5) o superiore.

Gli obiettivi di sputtering vengono utilizzati per la fabbricazione di strati barriera e strati di cablaggio metallico per imballaggio.Nel processo di produzione dei wafer, il bersaglio viene utilizzato principalmente per realizzare lo strato conduttivo, lo strato barriera e la griglia metallica del wafer.Nel processo di confezionamento dei chip, il bersaglio di sputtering viene utilizzato per generare strati metallici, strati di cablaggio e altri materiali metallici sotto i dossi.Sebbene la quantità di materiali target utilizzati nella produzione di wafer e nel confezionamento dei chip sia piccola, secondo le statistiche SEMI, il costo dei materiali target nella produzione di wafer e nel processo di confezionamento rappresenta circa il 3%.Tuttavia, la qualità del bersaglio di sputtering influisce direttamente sull'uniformità e sulle prestazioni dello strato conduttivo e dello strato barriera, influenzando così la velocità di trasmissione e la stabilità del chip.Pertanto, l'obiettivo dello sputtering è una delle materie prime fondamentali per la produzione di semiconduttori