Con lo sviluppo della società e della cognizione delle persone, gli obiettivi sputtering sono stati conosciuti, riconosciuti e accettati da un numero sempre maggiore di utenti e il mercato sta migliorando sempre di più.Ora l'esistenza di obiettivi di sputtering può essere vista in molti settori e aree di lavoro nel mercato interno.Ora il redattore di RSM vi spiegherà quali settori utilizzeranno gli obiettivi sputtering nella società odierna.
Gli obiettivi di sputtering vengono utilizzati principalmente nell'industria elettronica e dell'informazione, come circuiti integrati, memorizzazione di informazioni, display a cristalli liquidi, memoria laser, controller elettronico, ecc.;Può essere utilizzato anche nel campo del rivestimento del vetro;Può anche essere applicato a materiali resistenti all'usura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura, prodotti decorativi di alta qualità e altre occupazioni.
Industria dell'archiviazione delle informazioni: con il continuo sviluppo del settore IT, la domanda internazionale di supporti di registrazione è in aumento e la ricerca e la produzione di obiettivi per i supporti di registrazione è diventata un punto caldo.Nel settore dell'archiviazione delle informazioni, i relativi prodotti a film sottile preparati mediante bersagli di sputtering includono dischi rigidi, testine magnetiche, dischi ottici e così via.La produzione di questi prodotti di archiviazione dati richiede l'uso di obiettivi di alta qualità con cristallinità speciale e componenti speciali.Comunemente utilizzati sono cobalto, cromo, carbonio, nichel, ferro, metalli preziosi, metalli rari, materiali dielettrici, ecc.
Industria dei circuiti integrati: gli obiettivi per i circuiti integrati rappresentano un'ampia quota dei centri commerciali target globali.I loro prodotti di sputtering includono principalmente film di interconnessione degli elettrodi, film barriera, film tattile, maschera del disco ottico, film di elettrodi condensatori, film di resistenza, ecc. Tra questi, il resistore a film sottile è il componente con più consumo Z nel circuito integrato ibrido a film sottile e il la quantità di lega Ni-Cr nel bersaglio per la pellicola resistiva è molto elevata.
Orario di pubblicazione: 19 maggio 2022