Sappiamo tutti che lo sputtering è una delle principali tecnologie per la preparazione dei materiali cinematografici.Utilizza gli ioni prodotti dalla sorgente ionica per accelerare l'aggregazione nel vuoto per formare un fascio ionico ad alta velocità, bombardare la superficie solida e gli ioni scambiano energia cinetica con gli atomi sulla superficie solida, in modo che gli atomi sul solido superficie lasciano il solido e si depositano sulla superficie del substrato.Il solido bombardato è la materia prima per depositare la pellicola mediante sputtering, chiamato bersaglio di sputtering.
Vari tipi di materiali in pellicola spruzzata sono stati ampiamente utilizzati nei circuiti integrati dei semiconduttori, nei supporti di registrazione, nella visualizzazione planare, nel rivestimento superficiale di utensili e matrici e così via.
Gli obiettivi di sputtering vengono utilizzati principalmente nelle industrie elettroniche e dell'informazione, come circuiti integrati, archiviazione di informazioni, display a cristalli liquidi, memorie laser, apparecchiature di controllo elettronico, ecc.;Può essere utilizzato anche nel campo del rivestimento del vetro;Può essere utilizzato anche in materiali resistenti all'usura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura, prodotti decorativi di fascia alta e altri settori.
Esistono molti tipi di target sputtering e diversi metodi per la classificazione dei target:
In base alla composizione, può essere suddiviso in bersaglio metallico, bersaglio in lega e bersaglio in composto ceramico.
A seconda della forma, può essere diviso in bersaglio lungo, bersaglio quadrato e bersaglio rotondo.
Può essere suddiviso in target microelettronico, target di registrazione magnetica, target del disco ottico, target di metalli preziosi, target di resistenza della pellicola, target di pellicola conduttiva, target di modifica della superficie, target della maschera, target dello strato decorativo, target dell'elettrodo e altri target in base al campo di applicazione.
A seconda delle diverse applicazioni, può essere suddiviso in target ceramici relativi ai semiconduttori, target ceramici medi di registrazione, target ceramici con display, target ceramici superconduttori e target ceramici con magnetoresistenza gigante.
Orario di pubblicazione: 29 luglio 2022