RSM condivide le questioni che richiedono attenzione quando si acquistano materiali target

Molti utenti non considerano l'acquisto di obiettivi da un punto di vista professionale, quindi a cosa bisogna prestare attenzione quando si acquistano obiettivi?Chiediamo allo Xiaobian di Pechino Ruichi di sottolineare le questioni che richiedono attenzione quando si acquistano gli obiettivi.

In primo luogo, per il target, la purezza è uno dei principali indicatori funzionali e la purezza del target ha un grande impatto sulla funzione della successiva pellicola del prodotto.Ogni prodotto ha anche requisiti diversi per la purezza del target.

In secondo luogo, il contenuto di impurità dei singoli elementi nel bersaglio.Dopo una serie di lavorazioni target, le impurità nel solido target e l'ossigeno e il vapore acqueo nei pori costituiscono le principali fonti di inquinamento delle pellicole depositate.A causa dei diversi usi dei target, anche i requisiti per i diversi contenuti di impurità dei target con usi diversi sono diversi.Ad esempio, i target in alluminio puro e leghe di alluminio utilizzati nell'industria dei semiconduttori hanno ora requisiti speciali per il contenuto di metalli alcalini ed elementi radioattivi.

La densità è anche uno degli indici di prestazione importanti del target. Nel processo tecnico del target, al fine di ridurre i pori nel solido target e migliorare la funzione della pellicola spruzzata, il target deve generalmente avere un'alta densità.La principale densità caratteristica del target ha una grande influenza sulla velocità di sputtering e influenza le funzioni elettriche e ottiche della pellicola.Maggiore è la densità target, migliore è la funzione della pellicola.

Infine, la dimensione e la distribuzione dei grani.Di solito, il materiale target è policristallino e la dimensione dei grani può variare da micron a millimetri.Per lo stesso target, la velocità di sputtering del target a grana fine è più veloce di quella del target a grana grossa;Lo spessore delle pellicole depositate mediante sputtering target con piccola differenza di granulometria (dispersione uniforme) è più uniforme.