Molti produttori di vetro desiderano sviluppare nuovi prodotti e chiedono consiglio al nostro ufficio tecnico sull'obiettivo del rivestimento del vetro.Di seguito sono riportate le conoscenze rilevanti riassunte dal dipartimento tecnico di RSM:
L'obiettivo dello sputtering del rivestimento del vetro nell'industria del vetro è principalmente quello di produrre vetro rivestito a bassa radiazione.Inoltre, utilizzare il principio dello sputtering del magnetron per spruzzare una pellicola multistrato sul vetro per ottenere il ruolo di risparmio energetico, controllo della luce e decorazione.
Il vetro rivestito a bassa radiazione è anche noto come vetro a risparmio energetico.Negli ultimi anni, con l’aumento del risparmio energetico e della riduzione delle emissioni, nonché con il miglioramento della qualità della vita, il tradizionale vetro da costruzione viene gradualmente sostituito dal vetro a risparmio energetico.È proprio grazie a questa domanda del mercato che quasi tutte le grandi imprese di lavorazione profonda del vetro stanno rapidamente aumentando la linea di produzione di vetro rivestito.
Di conseguenza, la domanda di materiali target per il rivestimento del vetro sta aumentando rapidamente.I materiali target per lo sputtering per il rivestimento del vetro includono principalmente target per lo sputtering di cromo, target per lo sputtering di titanio, target per lo sputtering di nichel-cromo, target per lo sputtering di silicio e alluminio e così via.Ulteriori dettagli sono i seguenti:
Bersaglio sputtering di cromo
Gli obiettivi di sputtering del cromo sono ampiamente utilizzati nel rivestimento di strumenti hardware, nel rivestimento decorativo e nel rivestimento di display piatti.Il rivestimento dell'hardware viene utilizzato in varie applicazioni meccaniche e metallurgiche come utensili robot, utensili di tornitura, stampi (fusione, stampaggio).Lo spessore del film è generalmente compreso tra 2 e 10 um e richiede elevata durezza, bassa usura, resistenza agli urti e resistenza allo shock termico ed elevata proprietà di adesione.Ora, gli obiettivi di sputtering del cromo vengono comunemente applicati nell'industria del rivestimento del vetro.L'applicazione più importante è la preparazione degli specchietti retrovisori automobilistici.Con le crescenti esigenze degli specchietti retrovisori automobilistici, molte aziende sono passate dal processo di alluminizzazione originale al processo di cromo sputtering sotto vuoto.
Bersaglio sputtering in titanio
Gli obiettivi di sputtering in titanio sono comunemente utilizzati nel rivestimento di strumenti hardware, rivestimenti decorativi, componenti semiconduttori e rivestimenti di display piatti.È uno dei materiali principali per la preparazione dei circuiti integrati e la purezza richiesta è solitamente superiore al 99,99%.
Bersaglio per sputtering di nichel-cromo
Il bersaglio per sputtering al nichel-cromo è ampiamente utilizzato nella produzione di spugne di nichel e aree di rivestimento decorativo. Può formare un rivestimento decorativo su superfici ceramiche o uno strato di saldatura per la fabbricazione di dispositivi nel circuito quando evaporato sotto vuoto.
Bersaglio sputtering in alluminio e silicio
Il target di sputtering in silicio e alluminio può essere applicato nei display a semiconduttore, deposizione chimica in fase vapore (CVD), deposizione fisica in fase vapore (PVD).
Un'altra importante applicazione del materiale target del vetro è la preparazione di uno specchietto retrovisore automobilistico, che comprende principalmente target di cromo, target di alluminio e target di ossido di titanio.Con il continuo miglioramento dei requisiti di qualità degli specchietti retrovisori automobilistici, molte aziende sono passate dal processo di placcatura dell'alluminio originale al processo di cromatura a spruzzo sotto vuoto.
Rich Special Materials Co., Ltd. (RSM) in qualità di produttore di target sputtering, forniamo non solo target sputtering per il vetro ma anche target sputtering per altri campi.Come target di polverizzazione di metalli puri, target di polverizzazione di leghe, target di polverizzazione di ossido ceramico e così via.
Orario di pubblicazione: 25 ottobre 2022