Molti utenti devono aver sentito parlare del prodotto dello sputtering target, ma il principio dello sputtering target dovrebbe essere relativamente sconosciuto.Ora, l'editore diMateriale speciale ricco (RSM) condivide i principi dello sputtering magnetron del bersaglio sputtering.
Un campo magnetico ortogonale e un campo elettrico vengono aggiunti tra l'elettrodo bersaglio spruzzato (catodo) e l'anodo, il gas inerte richiesto (generalmente gas Ar) viene riempito nella camera ad alto vuoto, il magnete permanente forma un campo magnetico di 250 ~ 350 Gauss su la superficie dei dati target e il campo elettromagnetico ortogonale si forma con il campo elettrico ad alta tensione.
Sotto l'effetto del campo elettrico, il gas Ar viene ionizzato in ioni positivi ed elettroni.Al bersaglio viene aggiunta una certa alta tensione negativa.L'effetto del campo magnetico sugli elettroni emessi dal polo bersaglio e la probabilità di ionizzazione del working gas aumentano, formando un plasma ad alta densità vicino al catodo.Sotto l'effetto della forza di Lorentz, gli ioni Ar accelerano verso la superficie del bersaglio e bombardano la superficie del bersaglio ad una velocità molto elevata. Gli atomi spruzzati sul bersaglio seguono il principio di conversione della quantità di moto e volano via dalla superficie del bersaglio al substrato con elevata energia cinetica. depositare le pellicole.
Lo sputtering del magnetron è generalmente diviso in due tipi: sputtering tributario e sputtering RF.Il principio dell'attrezzatura per lo sputtering tributario è semplice e la sua velocità è elevata anche quando si spruzza metallo.Lo sputtering RF è ampiamente utilizzato.Oltre a spruzzare materiali conduttivi, può anche spruzzare materiali non conduttivi.Allo stesso tempo, effettua anche lo sputtering reattivo per preparare materiali di ossidi, nitruri, carburi e altri composti.Se la frequenza RF viene aumentata, diventerà uno sputtering di plasma a microonde.Ora, viene comunemente utilizzato lo sputtering al plasma a microonde con risonanza ciclotronica elettronica (ECR).
Orario di pubblicazione: 31 maggio 2022