Con l'aumento della domanda del mercato, sempre più tipi di obiettivi sputtering vengono costantemente aggiornati.Alcuni sono familiari e altri non sono familiari ai clienti.Ora, vorremmo condividere con voi quali sono i tipi di obiettivi di sputtering del magnetron.
I bersagli di sputtering hanno i seguenti tipi: target di rivestimento di sputtering di metallo, target di rivestimento di sputtering di lega, target di rivestimento di sputtering di ceramica, target di sputtering di ceramica di boruro, target di sputtering di ceramica di carburo, target di sputtering di ceramica di fluoro, target di sputtering di ceramica di nitruro, target di sputtering di ceramica di ossido, target di sputtering di ceramica di seleniuro , bersaglio per sputtering ceramico al siliciuro, bersaglio per sputtering ceramico al solfuro, bersaglio per sputtering ceramico al tellururo, altri target ceramici, bersaglio ceramico all'ossido di silicio drogato con cromo (CR SiO), bersaglio al fosfuro di indio (INP), bersaglio all'arseniuro di piombo (pbas), bersaglio all'arseniuro di indio (InAs ).
Lo sputtering del magnetron è generalmente diviso in due tipi: sputtering DC e sputtering RF.Il principio delle apparecchiature di sputtering DC è semplice e la sua velocità è elevata anche quando si spruzza metallo.Lo sputtering RF è ampiamente utilizzato.Oltre a diffondere dati conduttivi, può anche diffondere dati non conduttivi.Allo stesso tempo, il bersaglio di sputtering esegue anche lo sputtering reattivo per preparare dati composti come ossidi, nitruri e carburi.Se la frequenza RF aumenta, diventerà sputtering di plasma a microonde.Attualmente viene comunemente utilizzato lo sputtering al plasma a microonde con risonanza ciclotronica elettronica (ECR).
Orario di pubblicazione: 18 maggio 2022