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NiCrAlY Sputtering Target Rivestimento in Pvd a film sottile ad elevata purezza Realizzato su misura

Nichel Cromo Alluminio Ittrio

Breve descrizione:

Categoria

Bersaglio sputtering in lega

Formula chimica

NiCrAlY

Composizione

Nichel Cromo Alluminio Ittrio

Purezza

99,5%, 99,7%, 99,9%, 99,95%

Forma

Piastre, bersagli a colonna, catodi ad arco, su misura

Processo produttivo

Fusione sotto vuoto

Misura disponibile

L ≤ 200 mm, L ≤ 200 mm


Dettagli del prodotto

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Descrizione del target dello sputtering dell'ittrio e del nichel-cromo-alluminio

Il target Sputtering NiCrAlY è prodotto mediante fusione sotto vuoto di materie prime di nichel cromo alluminio ittrio.Ha elevata consistenza e granulometria fine ed è privo di pori.La sua composizione di cromo varia dal 10 al 30% (in peso), alluminio dal 10 al 20% (in peso), ittrio dallo 0,5 all'1,0% (in peso) e presenta la struttura bistrato di γ+β.
Lo strato NiCrAlY viene spesso utilizzato come rivestimento di barriera termica.La corrosione ad alta temperatura si riferisce ad un attacco chimico di leghe a base di ferro, nichel e cobalto che formano cromo da parte di gas, sali solidi o fusi o metalli fusi, generalmente a temperature superiori a 400°C (750°F).L'applicazione dello strato NiCrAlY utilizzato nella lega per gradini ad alta temperatura di aeromobili e turbine a gas potrebbe migliorare le prestazioni di resistenza alla corrosione e prolungare la durata del prodotto.

Imballaggio target per sputtering di ittrio e nichel cromo alluminio

Nostro Nichel Cromo Alluminio Ittriobersaglio sputterè chiaramente contrassegnato ed etichettato esternamente per garantire un'identificazione e un controllo di qualità efficienti.Viene prestata la massima attenzione per evitare eventuali danni che potrebbero essere causati durante lo stoccaggio o il trasporto.

 

Ottieni contatto

I target di sputtering di nichel-cromo-alluminio-ittrio di RSM sono di altissima purezza e uniformi.Sono disponibili in varie forme, purezze, dimensioni e prezzi.Siamo specializzati nella produzione di materiali di rivestimento a film sottile di elevata purezza con prestazioni eccellenti nonché la massima densità possibile e dimensioni medie dei grani più piccole possibili per l'uso nel rivestimento di stampi, decorazioni, parti di automobili, vetro a bassa emissività, circuiti integrati a semiconduttori, film sottile resistenza, display grafico, settore aerospaziale, registrazione magnetica, touch screen, batteria solare a film sottile e altre applicazioni di deposizione fisica in fase di vapore (PVD).Vi preghiamo di inviarci una richiesta per i prezzi attuali sugli obiettivi di sputtering e altri materiali di deposizione non elencati.

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