Rivestimento in Pvd a film sottile ad alta purezza in lega di PbBi, realizzato su misura
Piombo-bismuto
Descrizione dell'obiettivo dello sputtering piombo-bismuto
La lega di piombo-bismuto è nota per il suo basso punto di fusione.Le leghe a bassa temperatura di fusione contengono solitamente dal 20% al 25% di piombo, bismuto e talvolta altri metalli, come stagno, cadmio o indio.Sono ampiamente utilizzati nell'industria ottica per il bloccaggio di lenti, bloccaggio pezzi nell'ingegneria di precisione, prototipazione, valvole di sicurezza, presse per tirature limitate, piegatura di tubi per profili complicati, radioterapia per costruire blocchi schermanti e molte altre applicazioni.
La lega piombo-bismuto ha un punto di fusione di 124°C, è un materiale adatto per il refrigerante nei reattori nucleari, per la produzione di idrogeno e per obiettivi di spallazione per la produzione di neutroni non a fissione.
Ingrediente in lega a bassa temperatura di fusione
| No | Composizione（wt.%） | Temperatura della zona di fusione/℃ | Purità | Tips | |||||
|
| Bi | Pb | Sn | Cd | Scrostata | Fine | Punto di flusso basato sul peso proprio | (%) | |
| 1 | 50,0 | 26.7 | 13.3 | 10,0 | 70 | 70 | 70 |
| eutettico |
| 2 | 52.0 | 32.0 | 16.0 | - | 95 | 95 | 95 |
| eutettico |
| 3 | 54.4 | 43.6 | 1.0 | 1.0 | 104 | 115 | 112 |
| Non eutettico |
| 4 | 55.5 | 44.5 | - | - | - | - | - | 99.995 | |
Imballaggio target per sputtering di bismuto al piombo
Il nostro target per sputtering di piombo e bismuto è chiaramente contrassegnato ed etichettato esternamente per garantire un'identificazione e un controllo di qualità efficienti.Viene prestata la massima attenzione per evitare eventuali danni che potrebbero essere causati durante lo stoccaggio o il trasporto.
Ottieni contatto
Gli obiettivi di sputtering di piombo e bismuto di RSM sono di altissima purezza e uniformi.Sono disponibili in varie forme, purezze, dimensioni e prezzi.Siamo specializzati nella produzione di materiali di rivestimento a film sottile di elevata purezza con prestazioni eccellenti nonché la massima densità possibile e dimensioni medie dei grani più piccole possibili per l'uso nel rivestimento di stampi, decorazioni, parti di automobili, vetro a bassa emissività, circuiti integrati a semiconduttori, film sottile resistenza, display grafico, settore aerospaziale, registrazione magnetica, touch screen, batteria solare a film sottile e altre applicazioni di deposizione fisica in fase di vapore (PVD).Vi preghiamo di inviarci una richiesta per i prezzi attuali sugli obiettivi di sputtering e altri materiali di deposizione non elencati.