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Ti Sputtering Target Rivestimento PVD a film sottile ad elevata purezza realizzato su misura

Titanio

Breve descrizione:

Categoria

Bersaglio Sputtering Metallico

Formula chimica

Ti

Composizione

Titanio

Purezza

99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma

Piastre, bersagli a colonna, catodi ad arco, su misura

Processo produttivo

Fusione sotto vuoto

Misura disponibile

L≤2000mm, L≤200mm


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Descrizione del bersaglio dello sputtering in titanio

Il titanio è un elemento chimico con il simbolo Ti e il numero atomico 22. È un metallo di transizione brillante dal colore argento.Il suo punto di fusione è (1660±10)℃, il punto di ebollizione è 3287℃.Ha peso leggero, elevata durezza, resistenza alla corrosione a tutti i tipi di prodotti chimici a base di cloro.

Il titanio resiste alla corrosione dell'acqua di mare e può dissolversi sia in ambienti acidi che alcalini.

La lega di titanio è ampiamente utilizzata nell'aerospaziale, nell'ingegneria chimica, nel petrolio, nella medicina, nell'edilizia e in altri campi per le sue eccezionali proprietà, come bassa densità, conduttività termica ed eccellente resistenza alla corrosione, saldabilità e biocompatibilità.

Il titanio potrebbe assorbire gas idrogeno, CH4 e Co2 ed è ampiamente utilizzato nei sistemi ad alto vuoto e ultra-alto vuoto.Il bersaglio per sputtering in titanio potrebbe essere utilizzato per la fabbricazione di reti di circuiti LSI, VLSI e ULSI o di materiali metallici barriera.

Imballaggio target sputtering in titanio

Il nostro target per sputtering in titanio è chiaramente contrassegnato ed etichettato esternamente per garantire un'identificazione e un controllo di qualità efficienti.Viene prestata la massima attenzione per evitare eventuali danni che potrebbero essere causati durante lo stoccaggio o il trasporto.

Ottieni contatto

Gli obiettivi di sputtering in titanio di RSM sono di altissima purezza e uniformi.Sono disponibili in varie forme, purezze, dimensioni e prezzi.Siamo specializzati nella produzione di materiali di rivestimento a film sottile di elevata purezza con prestazioni eccellenti nonché la massima densità possibile e dimensioni medie dei grani più piccole possibili per l'uso nel rivestimento di stampi, decorazioni, parti di automobili, vetro a bassa emissività, circuiti integrati a semiconduttori, film sottile resistenza, display grafico, settore aerospaziale, registrazione magnetica, touch screen, batteria solare a film sottile e altre applicazioni di deposizione fisica in fase di vapore (PVD).Vi preghiamo di inviarci una richiesta per i prezzi attuali sugli obiettivi di sputtering e altri materiali di deposizione non elencati.

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