Rivestimento PVD a film sottile ad alta purezza MoNb Sputtering Target Realizzato su misura

I target di molibdeno e niobio vengono preparati miscelando polveri di molibdeno e niobio seguite dalla compattazione fino alla massima densità.I materiali così compattati vengono facoltativamente sinterizzati e vengono quindi formati nella forma target desiderata.
Il bersaglio di sputtering al niobio e molibdeno ha un punto di fusione, una resistenza e una tenacità elevati a temperature elevate.Presenta inoltre un'eccellente conduttività termica ed elettrica con un basso coefficiente di dilatazione termica.L'aggiunta di niobio nel molibdeno migliora i pixel del display a cristalli liquidi di almeno tre volte.

I target sputtering di molibdeno e niobio sono materiali critici per i display a schermo piatto (FPD) e vengono utilizzati in grandi quantità nelle leghe di molibdeno-niobio per display a cristalli liquidi (LCD), display a cristalli liquidi cuboidi con sorgente, display a emissione di campo, display organici a emissione di luce, plasma pannelli di visualizzazione, display a catodoluminescenza, display fluorescenti sotto vuoto, display flessibili TFT e touch screen, ecc. L'evaporazione del fascio di elettroni dei processi di visualizzazione del pannello può causare depositi di niobio all'estremità superiore dell'emettitore, che sarà molto utile nello sviluppo di schermi di grandi dimensioni ad alta definizione.

Rich Special Materials è specializzata nella produzione di target per sputtering e può produrre materiali per sputtering di niobio e molibdeno secondo le specifiche dei clienti.Per ulteriori informazioni, si prega di contattarci.