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TaNb Sputtering Target Rivestimento in Pvd a film sottile ad elevata purezza Realizzato su misura

Tantalio Niobio

Breve descrizione:

Categoria

Bersaglio sputtering in lega

Formula chimica

TaNb

Composizione

Tantalio Niobio

Purezza

99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma

Piastre, bersagli a colonna, catodi ad arco, su misura

Processo produttivo

Fusione sotto vuoto

Misura disponibile

L ≤ 2000 mm, L ≤ 200 mm


Dettagli del prodotto

Tag dei prodotti

Descrizione del bersaglio dello sputtering al niobio e tantalio

Il bersaglio di sputtering di tantalio e niobio è fabbricato mediante fusione sotto vuoto di tantalio e niobio.Questi due sono metalli rari ad alto punto di fusione (tantalio 2996 ℃, niobio 2468 ℃), alto punto di ebollizione (tantalio 5427 ℃, niobio 5127 ℃).La lega di tantalio niobio ha l'aspetto simile all'acciaio, ha una lucentezza grigio-argento (mentre la polvere è grigio scuro).Ha molte proprietà favorevoli: resistenza alla corrosione, superconduttività e resistenza alle alte temperature.Pertanto, qualsiasi applicazione o settore potrebbe trarre vantaggio dall’utilizzo delle leghe di tantalio niobio, come l’elettronica, il vetro e l’ottica, l’aerospaziale, i dispositivi medici, la superconduttività e l’acciaio.

Il tantalio e il niobio sono da anni fondamentali nel settore spaziale grazie alla loro straordinaria forza, resistenza alla corrosione e altre caratteristiche interessanti e sono stati utilizzati in molti componenti importanti come motori a razzo e ugelli.

Imballaggio target per sputtering al niobio e tantalio

Il nostro target sputter TaNb è chiaramente contrassegnato ed etichettato esternamente per garantire un'identificazione e un controllo di qualità efficienti.Viene prestata la massima attenzione per evitare eventuali danni che potrebbero essere causati durante lo stoccaggio o il trasporto.

Ottieni contatto

I target di sputtering al tantalio niobio di RSM sono di altissima purezza e uniformi.Sono disponibili in varie forme, purezze, dimensioni e prezzi.Siamo specializzati nella produzione di materiali di rivestimento a film sottile di elevata purezza con prestazioni eccellenti nonché la massima densità possibile e dimensioni medie dei grani più piccole possibili per l'uso nel rivestimento di stampi, decorazioni, parti di automobili, vetro a bassa emissività, circuiti integrati a semiconduttori, film sottile resistenza, display grafico, settore aerospaziale, registrazione magnetica, touch screen, batteria solare a film sottile e altre applicazioni di deposizione fisica in fase di vapore (PVD).Vi preghiamo di inviarci una richiesta per i prezzi attuali sugli obiettivi di sputtering e altri materiali di deposizione non elencati.


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